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Série SEO de fornos de semicondutores

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Ms. Yang

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Série SEO de fornos de semicondutores

Nome da marca:	Suneast
Número do modelo:	SEO-100N
Quantidade mínima:	≥ 1 por cento
Preço:	Negociável
Detalhes da embalagem:	Caixas de madeira compensada
Condições de pagamento:	T/T

Informações pormenorizadas

Descrição do produto

Informações pormenorizadas

Lugar de origem:

Shenzhen, província de Guangdong, China

Certificação:

CE、ISO

Nome:

Forno semicondutor

Modelo:

SEO-100N

Dimensão:

1700 ((L) * 1200 ((W) * 1800 ((H) mm

Dimensão da caixa:

700 (L) * 550 (W) * 600 (H) mm

Peso:

500-800 kg

Potência total:

21 kW

Potência de aquecimento:

10 kW*2

Tensão de Trabalho:

AC3Ø 5W 380V 50/60H

Precisão de temperatura:

± 0,5°C

Escala de funcionamento da temperatura:

Temperatura ambiente+10°C~250°C

Modo de controlo de temperatura:

Controle de circuito fechado PID+acionamento SSR

Personalizável:

Destacar:

Soldagem por ondas seletivas combinada multimodular

Motor de mola linear iso-magnético

motor linear magnético iso-primavera

Descrição do produto

Série SEO de fornos de semicondutores

Visão geral do produto

A Série SEO de Fornos de Semicondutores possui um ajuste PID de alta capacidade com excelente estanqueidade ao ar para ambientes cheios de nitrogênio.e substratos de vidro, este forno oferece superior uniformidade de temperatura e estabilidade.

Principais especificações

Atributo	Valor
Modelo	SEO-100N
Dimensão	1700 ((L) * 1200 ((W) * 1800 ((H) mm
Peso	500-800 kg
Potência total	21 kW
Precisão de temperatura	± 0,5°C
Intervalo de temperatura	Temperatura ambiente+10°C~250°C

Tecnologia de base

Recirculação de ar horizontal:Sistema de alta capacidade garante uniformidade superior de temperatura
Câmara totalmente fechada:Construção de aço inoxidável com excelente estanqueidade ao ar para eficiência de nitrogénio
Motor de alta temperatura:Motor de eixo longo com grandes pás de turbina para operação estável a altas temperaturas
Controle de precisão:Ajuste do PID com precisão de 0,5°C e perfis de processo programáveis
Compatibilidade com salas limpas:Cumprem os padrões de salas limpas de mil graus para a produção de semicondutores
Controle de oxigénio:Análise de canal duplo mantém o teor de oxigénio abaixo de 50 ppm

Características do sistema

Estrutura da câmara

Dispõe de sistemas de circulação de ar quente superior e inferior com fluxo de ar ajustável. Construído com aço inoxidável de alta qualidade e suportes em camadas para utilização óptima do espaço.

Sistema de nitrogénio

Equipado com múltiplos medidores de fluxo e analisadores de oxigênio para monitoramento em tempo real. Mantenha o teor de oxigênio abaixo de 500PPM (opção para 100PPM).

Sistema de arrefecimento

A refrigeração por água com a tecnologia de jato de radiador reduz o tempo de arrefecimento, evitando ao mesmo tempo danos ao produto devido a alterações rápidas de temperatura.

Protecção da segurança

Inclui proteção contra excesso de temperatura, monitorização do teor de oxigénio, alarmes de pressão de nitrogénio, fechaduras de segurança eletrônicas e interruptor de parada de emergência.

Validação do desempenho

A concentração de partículas ≤ 35.200 (0,5 μm) atende às normas de salas limpas de classe mil.

O controlo de temperatura de alta precisão com regulação PID garante uma distribuição uniforme do calor.

Parâmetros técnicos

Parâmetro	Especificações
Dimensão da caixa	700 (L) * 550 (W) * 600 (H) mm
Modo de funcionamento	Duas caixas independentes (1-4 opcionais)
Uniformidade de temperatura	±1,5%°C (sem carga)
Tempo de aquecimento	≤ 15min (200°C sem carga)
Taxa de arrefecimento	2-5°C/min
Classe de limpeza	Classe 1000

Requisitos de instalação

Fonte de gás:Pureza de nitrogénio 99,999% a 0,5-0,8Mpa

Potência:380V 50/60HZ três-fase cinco fio com cabo 25mm2

Meio Ambiente:Intervalo de temperatura de 5-40°C, umidade relativa de 20-95%

Carga do piso:Mínimo de 1000 kg/m2

Etiquetas:

Forno de câmara de vácuo

Forno da circulação de ar quente

Forno de Forno de Wafer

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